低溫恒溫循環(huán)器特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折光儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。低溫恒溫循環(huán)器xian進的內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。
低溫恒溫循環(huán)器的應用領(lǐng)域：
1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設備。
3.生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。
4.對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等。
6.對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
主要用途：
1、對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學反應儀光源部分進行低溫冷卻
2、對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制
3、對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
4、對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制
5、對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
6、對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制
7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制
8、對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制
9、對電泳儀、粘度計、醫(yī)用冷帽、降溫毯進行低溫冷卻和溫度控制
10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴散泵、微波治療機進行低溫冷卻和溫度控制
